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    臺積電走向2nm!3D封裝芯片2024年將大規(guī)模量產(chǎn)

    共 1766字,需瀏覽 4分鐘

     ·

    2020-11-20 15:22



    ??新智元報(bào)道??

    編輯:QJP

    【新智元導(dǎo)讀】據(jù)中國臺灣媒體報(bào)道稱,臺積電(TSMC) 在實(shí)現(xiàn)2nm工藝方面取得了重大突破,該工藝可以生產(chǎn)數(shù)十億個晶體管,可能會突破摩爾定律放慢的局限。


    臺積電于去年成立了一個研發(fā)團(tuán)隊(duì),以確定其2nm技術(shù)的發(fā)展道路。據(jù)供應(yīng)鏈來源聲稱, TSMC 已經(jīng)確定了一個新的多橋通道場效應(yīng)晶體管(MBCFET) 架構(gòu),解決了與使用 FinFET 控制工藝收縮漏電流相關(guān)的物理極限。
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    臺積電此前曾表示,其2納米技術(shù)的研發(fā)和生產(chǎn)將在保山和新竹進(jìn)行,同時(shí)還進(jìn)一步指出,它正計(jì)劃擁有四個超大型晶圓廠,占地222英畝。
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    據(jù)臺積電預(yù)計(jì),2023年會進(jìn)行小批量風(fēng)險(xiǎn)實(shí)驗(yàn),未來蘋果、高通、英偉達(dá)、AMD等都會成為其2nm技術(shù)的客戶。
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    根據(jù)摩爾定律,自20世紀(jì)70年代初以來,集成電路上的晶體管數(shù)量大約每18個月翻一番。最終(從現(xiàn)在開始可能不會持續(xù)太久) ,摩爾定律將會終結(jié),因?yàn)橛布⒉豢赡苓M(jìn)一步縮小。
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    拋棄FinFET,跨越GAAFET,直接采用MBCFET

    目前的芯片從2011年的22nm工藝開始就使用 FinFET,即鰭式場效應(yīng)晶體管,解決了晶體管變得更小所帶來的問題。
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    直到工藝下降到 5nm前,F(xiàn)inFETs一直是很好的。當(dāng)達(dá)到原子水平 (3納米是25個硅原子排成一行) 時(shí) ,F(xiàn)inFET 開始出現(xiàn)漏電現(xiàn)象,可能不再適用于更進(jìn)一步的工藝水平。
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    在2nm工藝上,臺積電將放棄多年的FinFET(鰭式場效應(yīng)晶體管),甚至不使用三星規(guī)劃在3nm工藝上使用的 GAAFET (環(huán)繞柵極場效應(yīng)晶體管),也就是納米線(nanowire),而是將其拓展成為 MBCFET(多橋通道場效應(yīng)晶體管),也就是納米片(nanosheet)。
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    GAAFET 是一個周圍都是門的場效應(yīng)管。根據(jù)不同的設(shè)計(jì),全面柵極場效應(yīng)管可以有兩個或四個有效柵極。通過在柵極上施加電壓,你可以控制源極和漏極之間的電流,將其從0切換到1,并創(chuàng)建一個處理器的二進(jìn)制邏輯。
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    從GAAFET到MBCFET,從納米線到納米片,可以視為從二維到三維的躍進(jìn),能夠大大改進(jìn)電路控制,降低漏電率。
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    2nm 采用以環(huán)繞閘極(GAA)制程為基礎(chǔ)的MBCFET架構(gòu),可以解決FinFET因制程微縮產(chǎn)生電流控制漏電的物理極限問題。

    研發(fā)實(shí)力的背后,是金錢燃燒的聲音

    三星也在研發(fā) GAAFET,打算在其 3nm 芯片中引入 GAAFET,以提高超過 7nm 工藝 35% 的性能,同時(shí)降低 50% 的能耗,并在這一研發(fā)過程中投資了5億美元。
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    公開數(shù)據(jù)表明,2019年全球半導(dǎo)體公司研發(fā)支出有20家超過10億美元,合計(jì)達(dá)到563億美元,較2018年成長6%。其中2019年研發(fā)支出前十大半導(dǎo)體公司合計(jì)428億美元,較2018年成長8%。
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    2019年,中國有3家半導(dǎo)體公司研發(fā)費(fèi)用過超過10億美元,分別是臺積電(TSMC)、華為海思(Hisilicon)和 聯(lián)發(fā)科(MediaTek),而且全部進(jìn)入前十。三家公司研發(fā)投入合計(jì)約75億美元,較2018年增長21%。
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    美國有8家半導(dǎo)體公司研發(fā)費(fèi)用過超過10億美元,合計(jì)330億美元,較2018年增長5%;有五家進(jìn)入排名前十名,分別是:英特爾(Intel)、高通(Qualcomm)、博通(Broadcom)、英偉達(dá)(nVidia)、美光(Micron)。
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    韓國有2家半導(dǎo)體公司研發(fā)費(fèi)用過超過10億美元,分別是三星電子半導(dǎo)體事業(yè)部(Samsung Semiconductor)和 SK海力士(SK Hynix),而且全部進(jìn)入前十。
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    臺積公司持續(xù)投資研究與開發(fā),19年全年研發(fā)總預(yù)算約占總營收的 8.5%,此一研發(fā)投資規(guī)模相當(dāng)于或超越了許多其他高科技領(lǐng)導(dǎo)公司的規(guī)模。
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    臺積電并沒有公布為2nm新技術(shù)研發(fā)投入的經(jīng)費(fèi)數(shù)額,但是大家可以盡情發(fā)揮自己的想象了。
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